特許
J-GLOBAL ID：200903019943756145
透明導電膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-228590
公開番号（公開出願番号）：特開平7-090550
出願日： 1993年09月14日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：
【要約】【目的】 電気的光学的に優れた透明導電膜の製造方法を提供する。【構成】 反応性スパッタリング法により、ガラス基板上に、酸素を過剰に混入させてスズ添加酸化インジウム透明導電膜を成膜した後、熱処理を行い(100)結晶配向性の強いスズ添加酸化インジウム透明導電膜を得る。
請求項（抜粋）：
スパッタリング法により基板上にスズ添加酸化インジウムを含む透明導電膜の製造方法において、成膜開始時に上記酸化インジウムに対し化学量論的に過剰な酸素をスパッタリングガス中に混入させ酸化インジウムの(100)結晶配向を得るように上記スズ添加酸化インジウムを成膜した後、熱処理を行うことを特徴とする透明導電膜の製造方法。
IPC (2件)：
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