落射照明光学系における垂直照明設定装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：梶山佶是 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-196991
公開番号（公開出願番号）：特開平10-019794
出願日： 1996年07月08日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：

【要約】【課題】数量的に垂直度を検出して落射照明の状態を実質的に垂直に設定することができる落射照明光学系における垂直照明設定装置を提供することにある。【解決手段】対物レンズの焦点と共役関係にある照明光学系の光路の位置に光を透過させる開口を有するスリットと、試料が画素の配列方向に対して直行する方向にパターンを有していて開口を移動させてパターンに対して試料面上での第1および第2の落射照明位置で落射照明を行い、焦点の位置をパターン近傍でパターンに対して垂直方向に所定量移動させて、複数の焦点位置のそれぞれにおいて得られるパターンのエッジからの反射光の光学センサの検出信号に基づきこの検出信号に対応する画素位置を算出し、第1の落射照明位置および第2の落射照明位置のそれぞれにおける所定量移動に応じた画素位置の変化量と第1の落射照明位置および第2の落射照明位置とにより実質的に画素位置が変化しない試料面上での落射照明位置を求め、この位置に対応するように開口を設定するものである。

請求項（抜粋）：

落射照明光学系の対物レンズを介して試料に落射照明を行い、前記対物レンズを介して前記試料からの反射光を、所定の方向に配列され画素対応に設けられた複数の受光素子を有する光学センサにより検出する測定装置あるいは検査装置において、前記対物レンズの焦点と共役関係にある照明光学系の光路の位置に光を透過させる開口を有する開口絞りと、前記試料が前記画素の配列方向に対して直行する方向にパターンを有していて前記開口を移動させて前記パターンに対して前記試料面上での第1および第2の落射照明位置で前記落射照明を行い、前記焦点の位置を前記パターン近傍で前記パターンに対して垂直方向に所定量移動させて、複数の焦点位置のそれぞれにおいて得られる前記パターンのエッジからの反射光の前記光学センサの検出信号に基づきこの検出信号に対応する前記画素位置を算出し、前記第1の落射照明位置および第2の落射照明位置のそれぞれにおける前記所定量移動に応じた画素位置の変化量と前記第1の落射照明位置および第2の落射照明位置とにより実質的に画素位置が変化しない前記試料面上での落射照明位置を求め、この位置に対応するように前記開口絞りを設定する落射照明光学系における垂直照明設定装置。

IPC (4件)：

G01N 21/88 , G03F 9/00 , H01L 21/027 , H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 21/88 E , G03F 9/00 H , H01L 21/66 J , H01L 21/30 502 V

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開昭59-101827
特開昭59-141226
特開昭63-079342

全件表示

前のページに戻る