特許
J-GLOBAL ID:200903019962238333
微細気泡供給装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
穴見 健策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-198989
公開番号(公開出願番号):特開2002-011335
出願日: 2000年06月30日
公開日(公表日): 2002年01月15日
要約:
【要約】【課題】 故障しにくく耐久性に優れ、さらに、微細気泡を確実に発生させ、しかも大きな吐出量を得て対象液体中に微細気泡を供給する微細気泡供給装置を提供する。【解決手段】 内部に気液旋回可能な柱状空間Sを有する周壁部14と、周壁部の両端において内部を閉鎖するように固定された蓋部16と、を有する旋回容器12は、微細気泡が供給される対象液体L中に配置される。周壁部14には気液旋回円周100の接線方向に吹き出すように柱状空間内に導入させる導入口18を有するとともに、両方の蓋部16には気液導出口22がそれぞれ設けられる。流体供給装置24により導入口から少なくとも液体を柱状空間内に接線方向に加圧導入しつつ旋回流を生じさせて微細気泡を発生させ気液導出口22から同時に液体とともに微細気泡210を対象液体L中に導出供給させる。
請求項(抜粋):
内部に気液旋回可能な柱状空間を有する周壁部と、周壁部の両端において内部を閉鎖するように固定された蓋部と、を有し微細気泡が供給される対象液体中に配置される旋回容器を備え、周壁部には気液旋回円周の接線方向に吹き出すように前記柱状空間に連通し少なくとも液体を柱状空間内に導入させる導入口を有するとともに、両方の蓋部には前記柱状空間の軸方向線上となる位置に気液導出口がそれぞれ設けられ、導入口に接続されて前記柱状空間内に少なくとも液体を加圧導入させる流体供給装置を備え、流体供給装置により柱状空間内に少なくとも液体を接線方向に加圧導入しつつ旋回流を生じさせて微細気泡を発生させ気液導出口から同時に液体とともに微細気泡を対象液体中に導出してなる微細気泡供給装置。
IPC (6件):
B01F 5/00
, A01G 31/00 602
, A01K 63/04
, B01F 3/04
, B01J 4/00 102
, C02F 3/20 ZAB
FI (7件):
B01F 5/00 G
, A01G 31/00 602
, A01K 63/04 C
, B01F 3/04 Z
, B01F 3/04 A
, B01J 4/00 102
, C02F 3/20 ZAB C
Fターム (16件):
2B104EB20
, 2B314MA23
, 2B314PA09
, 4D029AA01
, 4D029AB05
, 4D029BB01
, 4D029BB11
, 4D029BB13
, 4G035AB05
, 4G035AB15
, 4G035AC44
, 4G035AE13
, 4G068AA03
, 4G068AB01
, 4G068AB07
, 4G068AD50
引用特許:
審査官引用 (11件)
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エアレータ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-032263
出願人:日鉄鉱業株式会社
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特開昭57-117328
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特開平1-199634
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