特許

J-GLOBAL ID：200903019962370819

ガス供給装置及びガス供給方法

発明者： 堀岡 啓治
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-201213
公開番号（公開出願番号）：特開2002-043282
出願日： 2000年07月03日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
要約：

【要約】【課題】 ガス供給に係る設置・運用コストを削減できるガス供給装置及び方法を提供する。【解決手段】 ガス供給装置10は、処理チャンバ2の近傍に設置されたガス容器11を有し、このガス容器11は、ガス配管12により処理チャンバ2と接続されている。ガス容器11は容器本体15を有し、この容器本体15はベース部16に対して着脱自在な構成となっている。容器本体15内には主ガス室17が設けられ、この主ガス室17には、プロセスガスを含む複数種類のガスが予め所定の比率で混合された状態で充填されている。この混合ガスは、大気圧程度の圧力で充填されている。容器本体15内の混合ガスが消費されると、同様の混合ガスが封入された他の容器本体15に交換する。

請求項（抜粋）：

プロセスガスを含む複数種類のガスを処理チャンバ内に供給するガス供給装置であって、前記複数種類のガスが予め所定の比率で混合され封入された容器本体を有するガス容器と、前記容器本体内の混合ガスを前記処理チャンバ内に導入するためのガス導入部材とを備えるガス供給装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  F17C 7/00 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

F17C 7/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B

Fターム (25件)：

3E072DB10 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BC03 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA04 ,  5F004DA11 ,  5F004DA15 ,  5F004DA16 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F004DB02 ,  5F004DB03 ,  5F004DB07 ,  5F004DB09 ,  5F045EC09 ,  5F045EE02 ,  5F045EE04 ,  5F045EE05 ,  5F045EE17 ,  5F045EH13 ,  5F045GB05 ,  5F045GB06