反射防止フィルム、それを用いた偏光板、並びにそれらを用いた画像表示装置、反射防止フィルムの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛 , 濱田百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-211262
公開番号（公開出願番号）：特開2006-030740
出願日： 2004年07月20日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：

【課題】反射率が低く、ギラツキが押さえられ、耐擦傷性・防汚性・耐久性に優れた反射防止フィルム、並びにそのような反射防止フィルムを用いた偏光版及び画像表示装置を提供すること。【解決手段】透明支持体上に少なくとも低屈折率層形成用組成物の塗設により形成された低屈折率層を含む反射防止膜が設けられた反射防止フィルムにおいて、該低屈折率層形成用組成物が、下記一般式(1)で示される有機シリル化合物の加水分解物およびその部分縮合物の少なくともいずれかを含有し、且つ反射防止フィルムの最表面の中心線表面粗さRaが0.005〜0.20μmであることを特徴とする反射防止フィルム。一般式(1):R11mSi(X11)n(式中、X11は-OH、ハロゲン原子、-OR12基、又は-OCOR12基を表す。R11はアルキル基、アルケニル基又はアリール基を表し、R12はアルキル基を表す。m+nは4であり、m及びnはそれぞれ正の整数である。)【選択図】図2

請求項（抜粋）：

透明支持体上に少なくとも低屈折率層形成用組成物の塗設により形成された低屈折率層を含む反射防止膜が設けられた反射防止フィルムにおいて、該低屈折率層形成用組成物が、下記一般式(1)で示される有機シリル化合物の加水分解物及びその部分縮合物の少なくともいずれかを含有し、且つ反射防止フィルムの最表面の中心線表面粗さRaが0.005〜0.20μmであることを特徴とする反射防止フィルム。一般式(1):R11mSi(X11)n (式中、X11は-OH、ハロゲン原子、-OR12基、又は-OCOR12基を表す。R11はアルキル基、アルケニル基又はアリール基を表し、R12はアルキル基を表す。m+nは4であり、m及びnはそれぞれ正の整数である。)

IPC (5件)：

G02B 1/11 , B32B 27/00 , G02B 5/30 , G02F 1/133 , G02B 1/10

FI (6件)：

G02B1/10 A , B32B27/00 101 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/1335 510 , G02B1/10 Z

Fターム (64件)：

2H049BA02 , 2H049BB62 , 2H049BB65 , 2H049BC22 , 2H091FA08 , 2H091FA37X , 2H091FB02 , 2H091FB12 , 2H091FC09 , 2H091FC12 , 2H091FD15 , 2H091HA07 , 2H091HA10 , 2H091LA03 , 2H091LA07 , 2H091LA17 , 2K009AA03 , 2K009AA15 , 2K009CC09 , 2K009CC21 , 2K009CC35 , 2K009CC42 , 2K009EE03 , 4F100AA00B , 4F100AA20 , 4F100AB16 , 4F100AB25 , 4F100AJ06 , 4F100AK01D , 4F100AK51C , 4F100AK52B , 4F100AK52C , 4F100AL05B , 4F100AR00A , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA04 , 4F100BA05 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100DE01B , 4F100DE01D , 4F100DE04B , 4F100EH46B , 4F100EH46C , 4F100EH71 , 4F100GB41 , 4F100JB14 , 4F100JG01E , 4F100JG03E , 4F100JK12C , 4F100JK14B , 4F100JK14C , 4F100JL06 , 4F100JN01A , 4F100JN01D , 4F100JN01E , 4F100JN18B , 4F100JN30 , 4F100JN30D , 4F100YY00B , 4F100YY00C , 4F100YY00D

引用特許：

出願人引用 (6件)

反射防止フィルム及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-177510 出願人：大日本印刷株式会社
特開昭63-21601号公報
撥水撥油性超微粒子を有する光透過板およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-019122 出願人：株式会社日立製作所

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