特許
J-GLOBAL ID：200903019972756979
化学気相成長装置用反応室および該反応室を用いた化学気相成長装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-241938
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097080
出願日： 1992年09月10日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、一ウェハ毎に、均一で、かつ精度の良い成膜が安定にできるように改良された化学気相成長装置用反応室を得ることを最も主要な特徴とする。【構成】 当該装置は、ウェハ14を、その表面を下向きにして保持し、かつ該ウェハ14を加熱するためのウェハ加熱用ステージ28を備える。ウェハ加熱用ステージ28は、ステージ中央を中心に回転する。ウェハ加熱用ステージ28と対向する下方位置に、一定の空間領域53を形成するように、反応ガスをウェハ加熱用ステージ28に向けて供給するガス供給ヘッド37が設けられている。当該反応室は、ウェハ加熱用ステージ28とガス供給ヘッド37との間にできる空間領域53を横方向から取囲み、該空間領域53を密閉された反応室にするための反応室形成部材54を備える。反応室形成部材54中であって、かつウェハ加熱用ステージ28の全周に沿って、反応室内のガスを斜め上方向に排気するように、その形状が選ばれた排気口33が設けられている。
請求項（抜粋）：
ウェハを、その表面を下向きにして保持し、かつ該ウェハを加熱するためのウェハ加熱用ステージと、前記ウェハ加熱用ステージは、ステージ中央を中心に回転するものであり、前記ウェハ加熱用ステージと対向する下方位置に、一定の空間領域を形成するように設けられ、反応ガスを前記ウェハ加熱用ステージに向けて供給するガス供給ヘッドと、前記ウェハ加熱用ステージと前記ガス供給ヘッドとの間にできる前記空間領域を横方向から取囲み、該空間領域を密閉された反応室にするための反応室形成部材と、前記反応室形成部材中であって、かつ前記ウェハ加熱用ステージの全周に沿って設けられ、前記反応室内のガスを斜め上方向に排気するように、その形状が選ばれた排気口と、を備えた化学気相成長装置用反応室。
IPC (2件)：
引用特許：
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