特許
J-GLOBAL ID：200903019973149014
光学素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
久保 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-158480
公開番号（公開出願番号）：特開平8-021908
出願日： 1994年07月11日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：
【要約】【目的】マイクロレンズやマイクロ回折格子などの微小光学素子の製造工程数を低減して生産性を高めることを目的とする。【構成】基体部材10の表面を感光性レジスト材30で被覆し、感光性レジスト材30に対して、加工領域E0の全域を選択的に露光するパターンを含む3パターン以上の多重露光を行い、その後に現像処理を行うことによって、加工領域E0内で厚さが段階的に変化する原型レジスト層31を形成し、原型レジスト層31をエッチングマスクとする異方性エッチングによって、基体部材10の表層面を素子機能に応じた起伏面に加工する。
請求項（抜粋）：
基体部材をリソグラフィ法によって加工する光学素子の製造方法であって、前記基体部材の表面を感光性レジスト材で被覆し、前記感光性レジスト材に対して、加工領域の全域を選択的に露光するパターンを含む3パターン以上の多重露光を行い、その後に現像処理を行うことによって、前記加工領域内で厚さが段階的に変化する原型レジスト層を形成し、前記原型レジスト層をエッチングマスクとする異方性エッチングによって、前記基体部材の表層面を素子機能に応じた起伏面に加工することを特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (2件)：
前のページに戻る
