特許
J-GLOBAL ID：200903019981423117
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-247638
公開番号（公開出願番号）：特開平6-097087
出願日： 1992年09月17日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：
【要約】【目的】高周波もしくはマイクロ波電力と、磁場とを用いてプラズマを発生させて処理する装置において、プラズマの不安定領域を狭くし、かつ高密度で均一な処理を得ること。【構成】マイクロ波発生器1からのマイクロ波電力と、コイル8からの磁場とにより、プラズマを効率良く発生して試料9の処理を行う装置において、マイクロ波発生器用電源13によりマイクロ波電力を10ミリ秒以下の周期で、かつその最大電力と最小電力との比を4以下で変化させる。【効果】不安定領域が減少し、かつ均一で速い速度のプラズマ処理が可能となる。
請求項（抜粋）：
低圧のガス又はガス状混合物を内部に蓄える気密容器と、該気密容器内にガスを導入する手段及び該気密容器からガスを排出する手段と、高周波ないしはマイクロ波を発生する高周波発生器と、該高周波発生器と前記気密容器間に高周波ないしはマイクロ波電力を伝達する高周波導入手段と、プラズマの発生効率を高めるための磁場とを有し、前記気密容器内にプラズマを生成させるよう構成されたプラズマ処理装置において、前記高周波発生器の出力を所定の周期で変化させることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, H01L 21/302
