特許
J-GLOBAL ID：200903019985711249
ゾーンプレートの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-155328
公開番号（公開出願番号）：特開平5-346503
出願日： 1992年06月15日
公開日（公表日）： 1993年12月27日
要約：
【要約】【目的】 高分解能のゾーンプレートを安定かつ大量に製造することを可能にする。【構成】 透過部23および非透過部22がそれぞれ所定のパターンに形成されたマスク20を照明し、このマスク20からの透過光25を用いてゾーンプレート26を製造する方法において、非透過部22を挾む各透過部23からそれぞれ透過する透過光25の間に位相差を生じさせる位相シフト手段24を設けた。
請求項（抜粋）：
透過部および非透過部がそれぞれ所定のパターンに形成されたマスクを照明し、このマスクからの透過光を用いてゾーンプレートを製造する方法において、前記非透過部を挾む各透過部からそれぞれ透過する前記透過光の間に位相差を生じさせる位相シフト手段が設けられたマスクを用いたことを特徴とするゾーンプレートの製造方法。
IPC (2件)：
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