特許
J-GLOBAL ID：200903020009426538
塗布装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-248795
公開番号（公開出願番号）：特開平5-084459
出願日： 1991年09月27日
公開日（公表日）： 1993年04月06日
要約：
【要約】【目的】 各種写真用フィルムや、磁気テープ、印画紙等に代表される薄膜状フィルムへの塗料塗布工法の内、合理的な手法として最近注目されているダイ塗布方式でのストライプ塗布において、ストライプ膜の塗膜ムラ・膜端部の乱れ・エアーの巻き込みを解決し、均一安定な塗膜を得ることを目的とする。【構成】 塗料計量溝26と供給塗料吐出用開口部25とが作るエッジ部27がシャープエッジ50μm以下とする構成によって、計量溝26内部の塗料の液圧変化がなくなり、その結果フィルム21の落ち込みによる塗膜ムラを回避、均一な膜形成ができる。
請求項（抜粋）：
ブロック状ダイ本体と、前記ダイ本体の一側面から突き出して設けられたブロック状の上下ノズルと、前記上下ノズルの先端部に設けられた略一定曲率の曲面と、前記上ノズルまたは下ノズルのどちらかもしくは両方の先端部に略均等に分割して設けられた略矩形状断面を有する開口部と、フィルム走行方向下流側の前記上ノズル先端部曲面上に略均等に分割して設けられた支え部および略一定深さの計量溝と、前記ダイ本体の略中央部に設けられた支え部および略一定深さの計量溝と、前記ダイ本体の略中央部に設けられた塗料溜りと、前記溜りと前記開口部とを流動的に導通する流れ溝と、前記上ノズルが前記下のずるに対し、フィルム側への突き出し量を30μm以上60μm以下となる構成を備えた塗布装置。
IPC (4件)：
B05C 5/02
, G03C 1/74
, G03F 7/16
, G11B 5/84
