特許
J-GLOBAL ID:200903020009631840

シームレスチューブ製造装置、該シームレスチューブを用いた帯電ローラ、プロセスカートリッジ及び電子写真装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山下 穣平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-359334
公開番号(公開出願番号):特開2003-162129
出願日: 2001年11月26日
公開日(公表日): 2003年06月06日
要約:
【要約】【課題】小径で薄肉の被覆チューブを、高い均一性、精密性で製造し、これを用いて電子写真装置の帯電ローラを形成する。【解決手段】複数層の小径で薄肉のシームレスチューブを製造する装置において、チューブ押出し手段、空冷手段、水冷サイジング手段、チューブ引取り手段およびチューブ切断手段が重力方向に配置されており、かつ、該シームレスチューブの定寸切断手段とシームレスチューブを互いに非接触に収納する収納手段が配置されている。この装置によって得られたシームレスチューブを弾性体層に被覆して帯電ローラを製造する。
請求項(抜粋):
弾性体層に被覆して帯電ローラを構成するために用いる、複数層の小径で薄肉のシームレスチューブを製造する装置において、チューブ押出し手段、空冷手段、水冷サイジング手段、チューブ引取り手段およびチューブ切断手段が重力方向に配置されており、かつ、該シームレスチューブの定寸切断手段と該シームレスチューブを互いに非接触に収納する収納手段を備えることを特徴とするシームレスチューブ製造装置。
IPC (6件):
G03G 15/02 101 ,  B29C 47/20 ,  B29C 47/34 ,  B29C 47/88 ,  F16C 13/00 ,  B29L 23:00
FI (7件):
G03G 15/02 101 ,  B29C 47/20 Z ,  B29C 47/34 ,  B29C 47/88 Z ,  F16C 13/00 B ,  F16C 13/00 E ,  B29L 23:00
Fターム (40件):
2H200FA13 ,  2H200HA02 ,  2H200HA28 ,  2H200HB12 ,  2H200HB22 ,  2H200HB43 ,  2H200HB45 ,  2H200MA03 ,  2H200MA04 ,  2H200MA08 ,  2H200MA12 ,  2H200MA13 ,  2H200MA14 ,  2H200MA17 ,  2H200MA20 ,  3J103AA02 ,  3J103AA14 ,  3J103AA32 ,  3J103BA41 ,  3J103EA02 ,  3J103EA12 ,  3J103GA02 ,  3J103GA57 ,  3J103GA58 ,  3J103HA04 ,  3J103HA20 ,  4F207AA09 ,  4F207AA45 ,  4F207AB13 ,  4F207AG08 ,  4F207AH04 ,  4F207AK02 ,  4F207AM02 ,  4F207KA01 ,  4F207KA11 ,  4F207KK56 ,  4F207KK76 ,  4F207KW23 ,  4F207KW26 ,  4F207KW41
引用特許:
審査官引用 (3件)

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