特許

J-GLOBAL ID：200903020026111923

汚染除去装置、露光装置の汚染除去方法及び露光装置

発明者： 岡田 政志
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-033969
公開番号（公開出願番号）：特開2002-237443
出願日： 2001年02月09日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】【課題】 電子線や光を用いた露光装置において、レチクルやマスク、及び、装置内に付着した汚染物を、装置のスループットを大きく低下させることなく除去する方法を提供する。【解決手段】 汚染除去装置1は、被洗浄物2を置く処理室3に、処理室3内を排気する真空ポンプ5と、処理室3内に処理ガスを導入するガスボンベ21と、処理室3内に置かれた被洗浄物2に電子線を照射する電子線照射手段9とを具備する。ガスボンベ21から導入された処理ガスに電子線を当てることにより処理ガスの気体分子が電離する。この電離した気体分子が被洗浄物2に付着している汚染物と反応し、汚染物が酸化されて分解蒸発する。蒸発した汚染物は排気手段により排気されて、汚染が除去される。

請求項（抜粋）：

被処理材を置く処理室と、該処理室内を排気する排気手段と、前記処理室内に処理ガスを導入するガス導入手段と、前記処理室内に置かれた被処理材に電子線を照射する電子線照射手段と、を具備することを特徴とする汚染除去装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/38 501 ,  H01J 37/18 ,  H01J 37/305

FI (5件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 7/38 501 ,  H01J 37/18 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 Z

Fターム (11件)：

2H096AA25 ,  2H096DA10 ,  2H096EA06 ,  2H096LA06 ,  2H096LA30 ,  5C033KK03 ,  5C034BB10 ,  5F056AA40 ,  5F056CB40 ,  5F056EA12 ,  5F056EA16