特許

J-GLOBAL ID：200903020035590133

基板の洗浄装置、洗浄方法ならびにそれを用いた電子源基板、画像形成装置の製造方法

発明者： 三島 誠治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050510
公開番号（公開出願番号）：特開2000-248390
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：

【要約】【課題】 従来の作製方法と比して電子源基板の製造歩留まりの向上、それによるコストの低減を実現するための基板の洗浄方法を提供する。【解決手段】 機能膜形成用領域が、該機能膜形成用領域を含む基板表面と洗浄液とが接触した状態で該洗浄液中への溶出を介して該基板表面に析出物を生じ得る成分を含むものであり、前記洗浄液と前記基板表面との接触条件を制御することにより、洗浄後の基板表面への付着粒子の個数を、該付着粒子に前記析出物が含まれる場合も含めて、0.3〜2μmの大きさの付着粒子の個数を1000μm2あたり2個以下とする、電子素子用の機能膜形成用領域を含む基板表面を洗浄液で洗浄する方法。

請求項（抜粋）：

電子素子用の機能膜形成用領域を含む基板表面を洗浄液で洗浄する方法において、前記機能膜形成用領域が、該機能膜形成用領域を含む基板表面と洗浄液とが接触した状態で該洗浄液中への溶出を介して該基板表面に析出物を生じ得る成分を含むものであり、前記洗浄液と前記基板表面との接触条件を制御することにより、洗浄後の基板表面への付着粒子の個数を、該付着粒子に前記析出物が含まれる場合も含めて、0.3〜2μmの大きさの付着粒子の個数を1000μm2あたり2個以下とすることを特徴とする電子素子形成用の基板表面の洗浄方法。

IPC (6件)：

C23G 1/00 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/12 ,  H01J 1/316 ,  H01J 9/02 ,  H01J 31/12

FI (6件)：

C23G 1/00 ,  B08B 3/02 B ,  B08B 3/12 C ,  H01J 1/30 E ,  H01J 9/02 E ,  H01J 31/12 C

Fターム (29件)：

3B201AA02 ,  3B201AB34 ,  3B201BB21 ,  3B201BB55 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201CC12 ,  3B201CD21 ,  4K053PA14 ,  4K053QA07 ,  4K053RA07 ,  4K053RA08 ,  4K053RA40 ,  4K053SA04 ,  4K053SA18 ,  4K053TA18 ,  4K053TA19 ,  4K053XA09 ,  4K053XA11 ,  4K053XA22 ,  4K053XA27 ,  5C036EE14 ,  5C036EF01 ,  5C036EF06 ,  5C036EF09 ,  5C036EG12 ,  5C036EH21 ,  5C036EH26