めっき磁性薄膜およびその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-191034
公開番号（公開出願番号）：特開平6-036929
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】【目的】低保磁力、高飽和磁束密度及び高耐食性を有する磁性薄膜を、量産性に優れた湿式めっき法により実現する。【構成】めっき法により成膜されるCo-Fe-Sn合金膜においてSnの含有量が8〜25重量%である磁性薄膜。および間欠電流にて成膜し最大電流密度が3アンペア/dm2以上で、1パルスの通電時間Tonが0.05〜2秒でかつ通電時間Ton/(通電時間Ton+停止時間Toff)の比が0.15〜0.5であることを特徴とするめっき磁性薄膜の製造方法。軟磁気特性が優れ耐食性も向上した。

請求項（抜粋）：