特許

J-GLOBAL ID：200903020065564528

パターン検査方法及びその装置、マスクの製造方法

発明者： 澤 英二
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-114569
公開番号（公開出願番号）：特開2004-317427
出願日： 2003年04月18日
公開日（公表日）： 2004年11月11日
要約：

【課題】パターン検査条件の誤差により発生する疑似欠陥の影響を排除してパターン検査の感度を高めること。【解決手段】最初のストライプS1の検査において、ストライプS1のセンサパターンとその参照パターンとの比較結果から得られるパターン検査条件に基づいて参照データを補正し、再度ストライプS1を撮像して取得されたセンサパターンと補正された参照パターンとを比較して被検査パターンを再検査し、かつストライプS2〜Snの検査において、パターン検査条件が設定値を越えていると、当該ストライプS2〜Snを再度撮像して取得されるセンサパターンのパターン検査条件に基づいて参照パターンを補正し、この補正された参照パターンを次のストライプS3〜Snの検査に用いる。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

被検査パターンを所定のパターン領域毎に走査して順次撮像して取得されるセンサパターンと、前回取得した前記センサパターンにより取得されるパターン検査条件に基づいて逐次補正される参照パターンとを比較して前記被検査パターンを検査するパターン検査方法において、 最初の前記パターン領域の検査において、当該パターン領域を撮像して取得された前記センサパターンと前記参照パターンとを比較し、この比較結果に基づいて得られる前記パターン検査条件に基づいて前記参照データを補正する工程と、前記最初のパターン領域を再度撮像して取得された前記センサパターンと前記工程で補正された前記参照パターンとを比較して前記被検査パターンを再検査する工程と、を有することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (4件)：

G01N21/956 ,  G03F1/08 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66

FI (6件)：

G01N21/956 A ,  G03F1/08 A ,  G03F1/08 S ,  H01L21/66 J ,  H01L21/30 502V ,  H01L21/30 502P

Fターム (21件)：

2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC01 ,  2G051AC21 ,  2G051CA03 ,  2G051CB02 ,  2G051CD04 ,  2G051DA05 ,  2G051EA12 ,  2G051EA23 ,  2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  2H095BD03 ,  2H095BD27 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB20 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ19