特許

J-GLOBAL ID：200903020065731505

精密洗浄方法および精密洗浄装置

発明者： 神永 賢三 ,  岡田 譲
出願人/特許権者： 日機装株式会社
代理人 (1件)： 福村 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-202001
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047732
出願日： 1991年08月12日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明は、オゾン層を破壊するなどの地球環境に悪影響を及ぼすことがなく、しかも被洗浄物の表面から有機物や水分を完全に除去することのできる精密洗浄方法およびその方法に使用する精密洗浄装置を提供することを目的にする。【構成】 本発明は、耐圧洗浄容器1に収納した被洗浄物と超臨界流体とを接触させることを主たる構成とする精密洗浄方法であり、被洗浄物を収納した耐圧洗浄容器1と、この耐圧洗浄容器内に超臨界流体を供給する超臨界流体供給手段2とを有することを主たる構成とする精密洗浄装置である。

請求項（抜粋）：

耐圧洗浄容器に収納した被洗浄物を超臨界流体で洗浄することを特徴とする精密洗浄方法。