特許
J-GLOBAL ID：200903020068315928
レジストのベーキング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-227577
公開番号（公開出願番号）：特開平5-066571
出願日： 1991年09月09日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：
【要約】【目的】 レジストのベーキング方法, 特に多層レジストのベーキング方法に関し,基板の汚染および基板搬送系への熱影響の抑制とを目的とする。【構成】 1)レジストを塗布した基板を間隔をあけてホットプレート上に載せ,該間隔を調節して該基板の昇温時間を所定の値に設定して,基板当たり1枚のホットプレートで該基板の加熱を行う。2)前記レジストが,多層レジストの下層レジストとスピンオングラス(SOG) からなる中間層であることを特徴とする。3)前記ホットプレートを複数個用いて,基板の並行加熱を行うように構成する。
請求項（抜粋）：
レジストを塗布した基板をホットプレート表面に平行にかつ一定距離離して該ホットプレート上に載せ,該一定距離の間隔を調節して該基板の昇温時間を所定の値に設定して,基板当たり1枚のホットプレートで該基板の加熱を行うことを特徴とするレジストのベーキング方法。
IPC (2件)：
G03F 7/38 501
, H01L 21/027
