特許
J-GLOBAL ID：200903020068850696
ピストンリング
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北澤 一浩 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-326599
公開番号（公開出願番号）：特開平5-141534
出願日： 1991年11月14日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 従来品より耐摩耗性及び耐焼付性に優れたピストンリングの提供。【構成】 少なくとも外周摺動面にイオンプレーティング法によりTiAlN皮膜2が形成されているピストンリング。【効果】 従来の硬質クロムめっき及びイオンプレーティングによるTiN皮膜より耐摩耗性及び耐焼付性に優れたピストンリングが得られる。
請求項（抜粋）：
ピストンリングの少なくとも外周摺動面にイオンプレーティングにより均一なTiAlN皮膜が形成されていることを特徴とするピストンリング。
IPC (3件)：
F16J 9/26
, C23C 14/32
, C23C 30/00
