特許
J-GLOBAL ID:200903020090465380

プラズマ処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石原 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-013257
公開番号(公開出願番号):特開平7-221033
出願日: 1994年02月07日
公開日(公表日): 1995年08月18日
要約:
【要約】【目的】 温度制御対象を温度制御機器にて制御するプラズマ処理装置において高周波ノイズによる誤動作を防止する。【構成】 温度制御機器10、20と温度制御対象8、9、18、19とを接続する導電線11、21の途中にノイズ除去フィルタ12、22を介装し、温度制御機器10、20とノイズ除去フィルタ12、22をそれぞれ接地された導電体によって囲まれた空間内に配設し、温度制御機器10、20とノイズ除去フィルタ12、22を接続する導電線11b、21bを接地された導電体14、24によって囲まれた空間内に配設し、ノイズ除去フィルタ12、22と温度制御対象8、9、18、19を接続する導電線11a、21aを減圧容器3の壁部と接地された導電体13、23とによって囲まれた空間内に配設した。
請求項(抜粋):
減圧容器内に高周波電力を印加することによりプラズマを発生させるプラズマ発生手段と特定部位の温度制御を行う温度制御機器とを備えたプラズマ処理装置において、温度制御機器と温度制御対象とを接続する導電線の途中にノイズ除去フィルタを介装し、温度制御機器とノイズ除去フィルタをそれぞれ接地された導電体によって囲まれた空間内に配設し、温度制御機器とノイズ除去フィルタを接続する導電線を接地された導電体によって囲まれた空間内に配設し、ノイズ除去フィルタと温度制御対象を接続する導電線を減圧容器の壁部と接地された導電体とによって囲まれた空間内に配設したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件):
H01L 21/205 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065
FI (2件):
H01L 21/302 C ,  H01L 21/302 A

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