特許
J-GLOBAL ID：200903020091824414
パターン検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-026756
公開番号（公開出願番号）：特開平9-218165
出願日： 1996年02月14日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：
【要約】【課題】 フォトマスク等の欠陥検査に使用でき、表面の高さが正常なパターンや基板部分等とは異なる部分を検出し、異物又はパターン欠陥と判定する。【解決手段】 装置は検査試料10の高さが異常なパターンを検出する。また異物を検出する。表面の高さが正常なパターンや基板部分等とは異なる部分を検出する手段としてシヤリング干渉系40を用いる。シヤリング干渉系においてマッハツエンダー型のシヤリング干渉系を用い撮像素子と共役な部分に光源50を配置する。検出方法として正常部分の干渉光強度のヒストグラムにおいてピークを正常部分と判断する。検出された正常部分の干渉光強度とは異なる干渉光強度の部分を異物又はパターン欠陥と判定する。エッジレス欠陥の検出や透明異物の高感度な検出ができ、ステージ位置精度が検査感度に影響しにくく、また照明系の干渉性を高くでき、干渉条件を保ったままでシヤリング量を連続可変できる。
請求項（抜粋）：
表面の高さが、正常なパターンや基板部分等とは異なる部分の検出の手段としてシヤリング干渉系を用い、上記検出の方式として、正常部分の干渉光強度のヒストグラムにおいてピークを正常部分と判断し、上記検出された正常部分の干渉光強度とは異なる干渉光強度の部分を異物またはパターン欠陥と判定する、ことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 21/88 Z
, G03F 1/08 S
