特許
J-GLOBAL ID：200903020129472347
マスク検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-111916
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300581
出願日： 2004年04月06日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】フォトマスク上に生じるスジムラを精度良く定量的に検出することができるマスク検査装置を提供する。【解決手段】複数のパターンが規則的に配列された被検査マスク1を支持する検査ステージ2と、被検査マスク1のパターン画像を複数のセンサ画素でY方向に読み取るラインセンサ4と、検査ステージ2をX方向に移動させるステージ駆動部3と、ステージ移動中にラインセンサ4でパターン画像を読み取るときに、複数のセンサ画素によって得られるセンサ出力信号を、X方向に並ぶパターンごとにセンサ画素の読取位置に応じて増幅率を切り換えて増幅する増幅手段(11,12)と、この増幅させたセンサ出力信号をX方向でパターンごとに複数回のサンプリングによって取り込む手段(131.132)と、取り込んだセンサ出力信号をY方向に沿うパターン列ごとに積算し、この積算値に基づいてスジ状のムラを検出する手段(135,136)とを備える。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
複数のパターンが二次元方向に規則的に配列された被検査マスクを支持する検査ステージと、
前記検査ステージに支持された前記被検査マスクのパターン画像を複数のセンサ画素で主走査方向に読み取る読取センサと、
前記検査ステージと前記読取センサとを副走査方向に相対的に移動させる移動手段と、
前記移動手段による移動中に前記読取センサで前記パターン画像を読み取るときに、前記複数のセンサ画素によって得られるセンサ出力信号を、前記副走査方向に並ぶパターンごとに前記センサ画素の読取位置に応じて増幅率を切り換えて増幅する増幅手段と、
前記増幅手段で増幅させた前記センサ出力信号を前記副走査方向で前記パターンごとに複数回のサンプリングによって取り込むサンプリング手段と、
前記サンプリング手段で取り込んだ前記センサ出力信号を前記主走査方向に沿うパターン列ごとに積算し、この積算値に基づいてスジ状のムラを検出する検出手段と
を備えることを特徴とするマスク検査装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 S
, G01N21/956 A
2G051AA56
, 2G051AB02
, 2G051CA03
, 2G051CB01
, 2G051DA07
, 2G051EA09
, 2G051EA14
, 2G051EB01
, 2G051ED15
, 2H095BD04
, 2H095BD17
, 2H095BD26
