特許

J-GLOBAL ID：200903020145051874

垂直磁気記録媒体の製造方法、垂直磁気記録媒体、及び垂直磁気記録装置

発明者： 荻原 英夫 ,  彦坂 和志
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-246654
公開番号（公開出願番号）：特開2002-063718
出願日： 2000年08月16日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
要約：

【要約】【課題】 磁性粒子を球状の形状に保った状態のグラニュラー構造を持つ下地膜を成膜することを可能とする。【解決手段】 基板1の上に非磁性母材中2aに磁性粒子2bが分散したグラニュラー構造を持った下地膜層2を成膜する工程と、前記下地膜層2の上に垂直磁性層3を成膜する工程と、前記垂直磁性層3の上に保護膜層4を成膜する工程とを有し、前記下地膜層2を成膜する工程は、前記基板1に断続的に基板バイアスを印加しながら前記下地膜層2を成膜することで、前記磁性粒子2bが前記下地膜層2の垂直方向に複数の列に並んだ層構造の下地膜層を成膜する。

請求項（抜粋）：

基板の上に非磁性母材中に磁性粒子が分散したグラニュラー構造を持った下地膜層を成膜する工程と、前記下地膜層の上に垂直磁性層を成膜する工程と、前記垂直磁性層の上に保護膜層を成膜する工程とを有し、前記下地膜層を成膜する工程は、前記基板に断続的に基板バイアスを印加しながら前記下地膜層を成膜することで、前記磁性粒子が前記下地膜層の垂直方向に複数の列に並んだ層構造の下地膜層を成膜することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。

IPC (4件)：

G11B 5/84 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/14 ,  G11B 5/738

FI (4件)：

G11B 5/84 Z ,  C23C 14/06 N ,  C23C 14/14 F ,  G11B 5/738

Fターム (16件)：

4K029BA24 ,  4K029BA64 ,  4K029BB02 ,  4K029BB07 ,  4K029BC06 ,  4K029BD11 ,  4K029CA05 ,  4K029CA13 ,  5D006CA01 ,  5D006CA03 ,  5D006CA05 ,  5D112AA03 ,  5D112BD01 ,  5D112BD03 ,  5D112FA04 ,  5D112FB26