特許
J-GLOBAL ID:200903020152858830
塗布方法およびスリットダイノズル
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-007804
公開番号(公開出願番号):特開2004-216298
出願日: 2003年01月16日
公開日(公表日): 2004年08月05日
要約:
【課題】塗布中は塗布液の界面が安定し、塗布終了後には塗布液がダイのリップ表面に残留することがなく、スジやムラのない均一な塗布膜を形成することが可能なスリットダイおよびこれを用いた塗布方法を提供する。【解決手段】基材表面に対し相対的に一方向へ移動するダイの吐出口から塗布液を供給して塗布する方法であって、式(1)を満たすダイ形状および塗布条件にて塗布することを特徴とする塗布方法。Δx:下流側リップの下流側エッジと上流側リップの下流側エッジの間の基材に垂直な方向の間隔L:下流側リップの下流側エッジと上流側リップの下流側エッジの間の塗布方向に沿った長さγ:上流側リップ面の基材に対する傾きδ:下流側リップ傾斜面の基材に対する傾きθ1:上流側リップ面と塗布液との接触角θ2:下流側リップ傾斜面と塗布液との接触角【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基材表面に対し相対的に一方向へ移動するダイの吐出口から塗布液を供給して塗布する方法であって、式(1)を満たすダイ形状および塗布条件にて塗布することを特徴とする塗布方法。
IPC (4件):
B05D1/26
, B05C5/02
, G03F7/16
, H01L21/027
FI (4件):
B05D1/26 Z
, B05C5/02
, G03F7/16
, H01L21/30 564Z
Fターム (26件):
2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025EA04
, 4D075AC02
, 4D075AC09
, 4D075AC72
, 4D075AC74
, 4D075AC92
, 4D075AC93
, 4D075CA48
, 4D075DA06
, 4D075DB01
, 4D075DB13
, 4D075DB14
, 4D075DB31
, 4D075DC22
, 4D075DC24
, 4D075EA07
, 4D075EA08
, 4D075EA14
, 4D075EA45
, 4F041AA06
, 4F041AB02
, 4F041BA12
, 4F041BA57
, 5F046JA02
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