特許

J-GLOBAL ID：200903020163712691

投影露光

発明者： 浅井 了
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 高橋 敬四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-060593
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275493
出願日： 1993年03月19日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：

【要約】【目的】 微細パターンを露光するのに適した投影露光に関し、従来の位相シフトマスクや斜入射照明よりも、さらに解像度の高い光投影露光を実現することを目的とする。【構成】 一方向に長い形状の繰り返しを含むパターンを前記一方向に沿って直線偏光した露光光を用いて転写する。

請求項（抜粋）：

一方向に長い形状の繰り返しを含むパターンを前記一方向に沿って直線偏光した露光光を用いて転写する投影露光方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G02B 27/28 ,  G03B 27/32 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 W