バッファ装置、および基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (3件)：木下實三 , 中山寛二 , 石崎剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-194186
公開番号（公開出願番号）：特開2006-019411
出願日： 2004年06月30日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：

【課題】処理効率の向上を図ることができるバッファ装置、および基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置において、基板1に対して各工程の処理を施す装置30,60の間に、バッファ装置20を配設した。このバッファ装置20は、基板1を複数保持可能なカセット50と、装置30,60間で基板1を受け渡す搬送手段40とを有する。この構成において、カセット50が搬送手段40に対して着脱可能とされたから、基板処理装置のバッファ空間が大幅に拡張され、生産調整が回避されるとともに、ライン全体のスループットが向上する。これにより、処理効率を格段に向上させることができる。また、基板1のバッファがカセット50としてカセット化されているため、基板1の取り置きに際しての取扱性が格段に向上する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

基板に対して第1の処理を施す第1処理装置と、当該基板に対して第2の処理を施す第2処理装置との間に配置され、前記基板を複数保持可能であるとともに、前記第1処理装置と前記第2処理装置とに連結されて、第1処理装置と第2処理装置とともに前記基板が搬送されるラインを形成するバッファ装置であって、前記ラインに対して、カセット化されて着脱可能であるバッファ部を備えたことを特徴とするバッファ装置。

IPC (3件)：

H01L 21/677 , B65G 49/06 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L21/68 A , B65G49/06 Z , H01L21/30 503E

Fターム (18件)：

5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031FA02 , 5F031FA03 , 5F031FA07 , 5F031FA09 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA15 , 5F031GA53 , 5F031GA57 , 5F031MA03 , 5F031MA13 , 5F031MA21 , 5F031PA09 , 5F046CD01 , 5F046CD05 , 5F046CD10

引用特許：

出願人引用 (1件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-011873 出願人：株式会社ニコン

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