特許

J-GLOBAL ID：200903020186710076

ウエットエッチング処理槽

発明者： 岩下 雅文
出願人/特許権者： 松下電子工業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-064596
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267274
出願日： 1992年03月23日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：

【要約】【目的】 ウエハとカセットの溝との接触部分にエッチング残りが無く、ウエハ全面を均一にエッチングする。【構成】 オーバーフロー槽11内へウエハ16をセットしたカセット15を投入する。このカセットの底部を固定枠17に固定すると、突き上げ板によってウエハが持ち上がる。ウエハが持ち上がる事によってポンプ13で循環された薬液がカセットの洗浄窓19よりカセット内に流れ込みやすくなり、ウエハ全面を均一にエッチングできる。

請求項（抜粋）：

槽内の底板にカセットを固定する枠とウエハおよびカセットの溝に沿って持ち上げるための固定部と、前記槽内の薬液を循環するポンプと、オーバーフロー槽とを備えたことを特徴とするウエットエッチング処理槽。