特許
J-GLOBAL ID：200903020201766679
実装プリント基板の再生方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-237059
公開番号（公開出願番号）：特開平7-090656
出願日： 1993年09月24日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：
【要約】【目的】 使用場所や方法の規制を受けることなく、塵埃等を十分に除去することができる実装プリント基板の再生方法を得る。【構成】 アルコール水溶液で洗浄した実装プリント基板に窒素ガスを吹きつけ、さらに基板上に残留するアルコール水溶液を除去するために乾燥させる。
請求項（抜粋）：
実装プリント基板をアルコール水溶液で洗浄する第1の工程と、この実装プリント基板に窒素ガスを吹きつけて乾燥することにより前記実装プリント基板上の水分を除去する第2の工程とを有する実装プリント基板の再生方法。
IPC (4件)：
C23G 5/032
, B08B 3/02
, C23G 1/24
, H01L 21/304 351
