特許
J-GLOBAL ID：200903020218460727
光触媒反応装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-150604
公開番号（公開出願番号）：特開平11-319857
出願日： 1998年05月13日
公開日（公表日）： 1999年11月24日
要約：
【要約】【課題】 毒性・副生成物のない、イニシャルコストの低い光触媒反応水処理装置において、然るべき強度の紫外線を触媒表面に安定的に照射し続けることを可能とする。【解決手段】 光触媒反応装置は、被処理水を順次次の水槽に流動可能に互いに連結された多数の水槽10〜15と、一部を水槽内の被処理水に浸すように各水槽内に個々に設置され、光触媒を担持した回転体1〜6と、各回転体に隣接して空中に配置した紫外線照射手段28〜39とを備える。各水槽内の被処理水を回転体に付着させ、その回転により空中に運び出し、空中で紫外線を照射することにより、水中照射による紫外線強度の減衰を抑制した処理が可能となる。
請求項（抜粋）：
被処理水を順次次の水槽に流動可能に互いに連結された多数の水槽と、一部を水槽内の被処理水に浸すように各水槽内に個々に設置され、光触媒を担持した回転体と、各回転体に隣接して空中に配置した紫外線照射手段とを備え、各水槽内の被処理水を回転体に付着させ、その回転により空中に運び出し、空中で紫外線を照射することにより処理するようにしたことを特徴とする光触媒反応装置。
IPC (3件)：
C02F 1/72 101
, B01J 35/02
, C02F 1/32
C02F 1/72 101
, B01J 35/02 J
, C02F 1/32
