特許

J-GLOBAL ID：200903020222322274

反射防止膜およびその製造方法

発明者： 大谷 実 ,  安藤 謙二 ,  鈴木 康之 ,  枇榔 竜二 ,  金沢 秀宏
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-088078
公開番号（公開出願番号）：特開平11-264903
出願日： 1998年03月17日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
要約：

【要約】【課題】 反射防止帯域が広く、耐環境性にもすぐれた反射防止膜を実現する。【解決手段】 石英または螢石の基板1に、第1層11と第3層13がAl2 O3 膜、第2層12と第4層14がAlF3 膜、最終層15がSiO2 膜である多層膜10を積層する。高屈折率膜に耐環境性のすぐれたAl2 O3 膜を用いることで反射防止膜E1 全体の耐環境性を改善するとともに、最終層15に防湿効果の高いSiO2 膜を用いることでさらに耐環境性を向上させる。

請求項（抜粋）：

設計中心波長λ0 が300nm以下の反射防止膜であって、石英または螢石を材料とする基板と、該基板に積層されたAl2 O3 膜とフッ化物膜とSiO2 膜からなる多層膜を有し、該多層膜の前記SiO2 膜が、前記基板側から最も遠い最終層を構成し、その光学的膜厚が前記設計中心波長λ0 の約1/10であることを特徴とする反射防止膜。

IPC (4件)：

G02B 1/11 ,  B32B 9/00 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/34

FI (4件)：

G02B 1/10 A ,  B32B 9/00 A ,  C23C 14/08 N ,  C23C 14/34 M