特許
J-GLOBAL ID:200903020241671050
釉薬組成物及び施釉方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
八木田 茂 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-152185
公開番号(公開出願番号):特開平5-147973
出願日: 1991年05月29日
公開日(公表日): 1993年06月15日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 毒性が最小限であり、かつ鉛、カドミウム、砒素、バリウム及びアンチモンを実質的に含有しない釉薬を提供する。【構成】 重量%でSiO2:35-60%、Bi2O3:5-45%、Al2O3:5-20%、B2O3:1-15%、CaO、MgO、SrO又はBaOの少なくとも1種:2-20%、Li2O、Na2O、K2Oの少なくとも1種:1-10%、及び他の任意成分からなり、かつBaOを2重量%より多い量で含有していないことを特徴とする骨灰磁器及び細粒磁器用の釉薬組成物より構成される。
請求項(抜粋):
次の成分: SiO2 35-60% Bi2O3 5-45% Al2O3 5-20% B2O3 1-15% CaO、MgO、SrO又はBaOの少なくとも1種 2-20% Li2O、Na2O、K2Oの少なくとも1種 1-10% TiO2 0-10% ZrO2 0-10% SnO 0-10% Nb2O5 0-5% Ta2O5 0-5% Sb2O3 0-5% 希土類元素の酸化物 0-10% ZnO 0-10% P2O5 0-10% MoO3及び/又はWO3 0-5% 弗化物イオン 0-5%(上記の%は、全て、組成物の全重量に基づく重量%である)からなり(但し、BaOは2重量%以上の量で含有されていないものとする)かつ鉛及びカドミウムを実質的に含有していない釉薬組成物であって、かつ、1100°C±40°Cの焼成温度と50-90×10-7°C-1の熱膨張係数を有することを特徴とする骨灰磁器及び細粒磁器上で使用するための釉薬組成物。
IPC (3件):
C03C 8/08
, C03C 8/14
, C04B 41/86
引用特許:
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