半導体製造装置用除害装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木戸一彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-113808
公開番号（公開出願番号）：特開2000-300956
出願日： 1999年04月21日
公開日（公表日）： 2000年10月31日
要約：

【要約】【課題】半導体製造装置用除害装置の小型化を図る。【解決手段】反応炉1から排ガスを排出する排ガス経路63に、該排ガス中の有害成分を除害処理する主除害装置91を設けるとともに、ベント経路67に、該ベント経路67を経て排出される排ガス中の有害成分を除害処理する副除害装置93を設ける。

請求項（抜粋）：

半導体原料の供給源と、該供給源から反応炉へ半導体原料を供給する原料供給経路と、供給源から反応炉を通らずに半導体原料物質を排出するベント経路とを備えた半導体製造装置から排出される排ガスの除害処理を行う除害装置において、前記反応炉から排ガスを排出する排ガス経路に、該排ガス中の有害成分を除害処理する主除害装置を設けるとともに、前記ベント経路に、該ベント経路を経て排出される排ガス中の有害成分を除害処理する副除害装置を設けたことを特徴とする半導体製造装置用除害装置。

IPC (4件)：

B01D 53/72 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/58 , H01L 21/205

FI (4件)：

B01D 53/34 120 D , H01L 21/205 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/34 131

Fターム (28件)：

4D002AA13 , 4D002AA40 , 4D002AC10 , 4D002BA03 , 4D002BA06 , 4D002CA07 , 4D002CA13 , 4D002CA20 , 4D002DA11 , 4D002DA23 , 4D002EA02 , 4D002GA01 , 4D002GA02 , 4D002GA03 , 4D002GB01 , 4D002GB02 , 4D002GB03 , 4D002GB04 , 4D002GB20 , 5F045AA04 , 5F045AB14 , 5F045AB17 , 5F045AC08 , 5F045AC12 , 5F045AD14 , 5F045AE29 , 5F045DA52 , 5F045EG08

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