特許
J-GLOBAL ID：200903020243887182
変位測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西村 教光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-032854
公開番号（公開出願番号）：特開2000-230802
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：
【要約】【課題】 ガラス基板上に形成された光を透過する物質の表面形状を、ガラス基板上に形成された金属パターンなどの反射状態による影響を受けずに測定することができること。【解決手段】 投光部10の光源1から出射された測定光はλ/2板3でS偏光に変換され被測定物Wの光を透過する物質W2に入射角度φ1(70度)を有して照射される。反射光は反射角度φ2で受光部11の受光素子7に入射され、変位量が検出される。光を透過する物質W2の表面での測定光の反射強度を高くでき、光を透過する物質W2裏面の反射状態に影響されずに表面の変位量を正確に測定できる。
請求項（抜粋）：
光を透過する物質からなる被測定物(W)に測定光を照射する投光部(10)と、被測定物の反射光を受光素子で受光する受光部(11)を備えて被測定物表面の変位量を測定する三角測量を利用した変位測定装置において、前記投光部の測定光をS偏光とし、該投光部の入射角度(φ1)及び受光部での反射角度(φ2)が50度以上に設定されたことを特徴とする変位測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 11/00 A
, G01B 11/24 F
2F065AA09
, 2F065AA56
, 2F065BB02
, 2F065BB22
, 2F065CC25
, 2F065CC31
, 2F065DD09
, 2F065FF01
, 2F065FF09
, 2F065FF44
, 2F065GG06
, 2F065HH09
, 2F065HH12
, 2F065JJ02
, 2F065JJ08
, 2F065JJ25
, 2F065LL33
, 2F065LL35
, 2F065LL37
