プラズマ強化プロセスにおける小口径開口部付きプラスチック製容器の内面処理装置および方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山田行一 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-514302
公開番号（公開出願番号）：特表2001-518565
出願日： 1998年09月28日
公開日（公表日）： 2001年10月16日
要約：

【要約】上述した装置を小口径の開口部を有するプラスチック製容器に導入し、容器の内面にプラズマ強化プロセスを施す。装置(2)は容器の軸(X)に沿って容器の開口部と容器の底部間に延び、プロセスガスを容器内に供給するためのガス供給管(23)と、容器内に静磁場を確立する永久磁石(24)とを含む。磁石(24)はガス供給管(23)内に配列された一列に重畳した磁石を形成する。各磁石のN極とS極は容器の軸(X)の両側に配置される。装置はまた、ガス供給管と磁石を冷却する冷却手段(25)を含む。プラズマ強化プロセスで使用するプラズマは、マイクロ波もしくは高周波で維持されることが好ましく、磁石(24)は容器内面から0〜30mmだけ離れた領域に電子サイクロトロン共振状態が形成されるように設計されることが好ましい。

請求項（抜粋）：

小口径開口部と、プラズマ強化プロセスでプラスチック製容器の内面を処理する容器の開口部を通る容器の軸(X)とを有するプラスチック製の容器(1)に配置される装置であって、容器の開口部を通る接続端部(21)と、容器の開口部とは反対側にある容器の底部に向かって延びる末端部(22)とを有する容器の軸(X)に沿って実質的に延び、プロセスガスを容器内に供給する多孔性材料または孔あき材料からなるガス供給管(23)と容器内に静磁場を確立する手段(24)とを含む装置(2)において、静磁場を作り出す手段はガス供給管(23)内に配列され、一個の永久磁石または一列の複数の重畳された永久磁石(24)を含み、それによって磁石のN極とS極は容器の軸(X)の両側に配置されることを特徴とする装置。

IPC (4件)：

C23C 16/511 , B65D 1/09 , H01J 37/32 , H05H 1/24

FI (4件)：

C23C 16/511 , H01J 37/32 , H05H 1/24 , B65D 1/00 C

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