特許

J-GLOBAL ID：200903020263605140

シリカガラスの製造法

発明者： 武井 康一 ,  林 房司 ,  町井 洋一 ,  嶋崎 俊勝
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-221973
公開番号（公開出願番号）：特開平5-058651
出願日： 1991年09月03日
公開日（公表日）： 1993年03月09日
要約：

【要約】【目的】光学的性質に優れ、空孔がなく、しかも大形のシリカガラスを安価に製造する方法を提供する。【構成】50重量%のポリ酢酸ビニル/メチルアルコール溶液645gとメチルアルコール3500gを混合し、これにシリコンテトラメトキシド(Si(OCH3)4)の部分重縮合物4300gを加え、混合し、15mMのコリン水溶液1676gを滴下し、シリカゾルを得る。これを容器に入れ、蓋をし、30°Cでゲル化し、60°Cで6日間、つづいて120°Cで1日乾燥し、乾燥ゲルを得る。乾燥ゲルを空気流通下に、700°Cに昇温し、ヘリウム雰囲気中、1300°Cまに昇温してシリカガラス体又はガラス前駆体を得る。これを金属含有量が20ppmの高純度の等方性カーボンの板の上に載せ、同じ材料でつくったルツボに入れて、1740°Cで30分加熱処理し、シリカガラスを得る。

請求項（抜粋）：

シリコンアルコキシドを有機溶媒中、触媒と共に加水分解してシリカゾルとし、つづいてゲル化し、乾燥して乾燥ゲルとし、これを1000〜1400°Cで加熱してガラス体又はガラス前駆体としたのち、これを金属含有量50ppm以下の高純度カーボンからなる敷板に載せ、又はこれを金属含有量50ppm以下の高純度カーボンからなるルツボに入れ、焼成炉中、1720°C以上の温度で焼成することを特徴とするシリカガラスの製造法。

IPC (2件)：

C03B 8/02 ,  C03B 20/00