特許
J-GLOBAL ID：200903020266527868
ウエハプロセス用装置の識別方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-194606
公開番号（公開出願番号）：特開平5-041353
出願日： 1991年08月05日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：
【要約】【目的】プラズマ利用プロセス装置を用いてウエハに処理を施す工程を含むウエハプロセス上の異常や不良の発生原因を追跡調査する際に、その製造工程に用いたプロセス装置をウエハごとに容易に特定できるようにする。【構成】プラズマ利用プロセス装置内でウエハに処理を施す際にその周縁部を抱持する環状のクランプ治具の内周にその装置に固有なパターンの凹凸を形成して置いて、処理中にこの凹凸のパターンをクランプ治具からウエハの周縁部に自動的に転写させ、この転写された凹凸のパターンやウエハのオリフラに対する位置から処理を施したプロセス装置を特定できるようにする。
請求項（抜粋）：
プラズマ利用プロセス装置内でウエハに処理を施す工程を含むウエハプロセスにおいて、装置内のプロセス中にウエハの周縁部を抱持する環状のクランプ治具の内周にその装置に固有な周方向の凹凸を形成して置き、ウエハプロセスを経由したウエハごとにその周縁部にクランプ治具から転写される凹凸によってプロセスに用いた装置を特定できるようにしたことを特徴とするウエハプロセス用装置の識別方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, H01L 21/205
, H01L 21/66
, H01L 21/68
