特許

J-GLOBAL ID：200903020266544584

金属酸化物薄膜の製造方法及び金属酸化物薄膜

発明者： 阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-267027
公開番号（公開出願番号）：特開平11-106935
出願日： 1997年09月30日
公開日（公表日）： 1999年04月20日
要約：

【要約】【課題】 従来よりも低温で、低い抵抗値と高い可視光透過率を有する金属酸化物系の透明導電膜を形成することができる方法を提供する。【解決手段】 透明基板上に成膜された金属酸化物系薄膜の製造法において,(a)金属アルコキシド及び/又は金属塩を含有する塗布液を透明基板上に塗布する工程,(b)塗布被膜を加熱することによって完全もしくは不完全に乾燥する工程,及び、(c)乾燥被膜に紫外光線もしくは可視光を照射する工程,を含むことを特徴とする金属酸化物系薄膜の製造法。

請求項（抜粋）：

透明基板上に成膜された金属酸化物系薄膜の製造法において,(a)金属アルコキシド及び/又は金属塩を含有する塗布液を透明基板上に塗布する工程,(b)塗布被膜を加熱することによって完全もしくは不完全に乾燥する工程,及び(c)乾燥被膜に紫外光線もしくは可視光を照射する工程,を含むことを特徴とする金属酸化物系薄膜の製造法。

IPC (4件)：

C23C 18/14 ,  C03C 17/27 ,  H01L 21/288 ,  H01L 31/04

FI (4件)：

C23C 18/14 ,  C03C 17/27 ,  H01L 21/288 Z ,  H01L 31/04 M