特許

J-GLOBAL ID：200903020270771676

液体処理方法および液体処理装置ならびに液体処理システム

発明者： 森 敏一 ,  津田 光男
出願人/特許権者： 株式会社プラウド
代理人 (1件)： 中尾 俊輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-257137
公開番号（公開出願番号）：特開平11-090420
出願日： 1997年09月22日
公開日（公表日）： 1999年04月06日
要約：

【要約】【課題】 液体処理設備を小規模化することができてイニシャルコストおよびランニングコストを低廉化できるとともに、簡単な操作により液体中の浮遊物等を確実に除去でき、しかも脱臭、脱色、殺菌、液体分子の細分化処理および酸化還元処理を行うことのできる液体処理方法および液体処理装置ならびに液体処理システムを提供すること。【解決手段】 浮遊物を含む液体にマイクロ波を発振して浮遊物分子と液体分子とに分離した後に、この浮遊物を分離後の液体に低周域の超音波を発振して前記浮遊物分子を凝集するとともに高周域の電磁超音波を発振して前記液体の脱臭を行うようにした。

請求項（抜粋）：

浮遊物を含む液体にマイクロ波を発振して浮遊物分子と液体分子とに分離した後に、この浮遊物を分離後の液体に低周域の超音波を発振して前記浮遊物分子を凝集するとともに高周域の電磁超音波を発振して前記液体の脱臭を行うようにしたことを特徴とする液体処理方法。

IPC (11件)：

C02F 1/30 ZAB ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/48 ,  C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/78

FI (12件)：

C02F 1/30 ZAB ,  C02F 1/36 ,  C02F 1/48 A ,  C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 P ,  C02F 1/50 531 R ,  C02F 1/50 540 A ,  C02F 1/50 550 C ,  C02F 1/50 560 C ,  C02F 1/50 560 F ,  C02F 1/50 560 G ,  C02F 1/78