特許
J-GLOBAL ID：200903020276756164
ドライエッチング装置と清浄化方法
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-054016
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259133
出願日： 1992年03月13日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：
【要約】【目的】 ドライエッチング装置の清浄化に関し、残留しているエッチャントガスを短時間で完全に除去することを目的とする。【構成】 プロセスガス導入ライン(1)とパージガス導入ライン(2)とよりなる給気系と真空排気ライン(3)とを備えてなるドライエッチング装置において、パージガスとして水蒸気含有ガス(11)を用い、ガス除外処理設備(7)を直接装置に設けたドライエッチング装置を使用し、パージガスとして水蒸気含有ガス(11)をチャンバ(4)に供給し、酸排気系に切り換えて排気することを特徴として清浄化方法を構成する。
請求項（抜粋）：
プロセスガス導入ライン(1)とパージガス導入ライン(2)とよりなる給気系と真空排気ライン(3)とを備えてなるドライエッチング装置において、パージガスとして水蒸気含有ガスを用い、パージガス導入により生じた酸を除去するガス除外処理設備(7)を直接装置に設けてなることを特徴とするドライエッチング装置。
引用特許：
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