特許
J-GLOBAL ID：200903020277037056
Niスタンパの製造方法およびパターン転写方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-319712
公開番号（公開出願番号）：特開平5-135414
出願日： 1991年11月08日
公開日（公表日）： 1993年06月01日
要約：
【要約】【目的】 平坦性の良好なNiスタンパの製造方法、およびゾルゲル法において少ない工程数で良好なパタ-ン転写が得られるパタ-ン転写方法を提供する。【構成】 マスタライティング法により微細パタ-ンの形成されたレジスト層2とこの上に電鋳法等により形成されたNi層から構成されるガラス原盤1に、嫌気性硬化樹脂4を用いて補強材5を貼り合わせ、その後離型してNiスタンパとする。また、マスタスタンパ形成の際に回転方向を通常の逆(反時計方向)にし、先に示したように補強材を貼り付けたNiスタンパを用いて作製した2P成型基板をゾルゲル転写用のワ-クスタンパとしてパタ-ン転写を行う。
請求項（抜粋）：
マスタライティング法により微細パタ-ンレジスト層をガラス原盤上に形成する工程と、該レジスト層上にNi層を形成する工程と、前記ガラス原盤上の該Ni層と補強材とを嫌気性硬化樹脂を用いて貼り合わせる工程と、前記レジスト層と前記Ni層との間を離型する工程と、前記Ni層の不用箇所を切断する工程と、前記補強材からはみだしている前記Ni層と前記補強材との隙間を樹脂で封止する工程とを備えたことを特徴とする光ディスク用のNiスタンパの製造方法。
IPC (3件)：
G11B 7/26 511
, B29C 33/38
, B29L 17:00
