特許
J-GLOBAL ID：200903020279572854
成膜装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
竹本 松司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-021880
公開番号（公開出願番号）：特開平11-222678
出願日： 1998年02月03日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：
【要約】【課題】 成膜プロセス中において、プロセスチャンバ内の圧力を成膜プロセスに適した高圧の圧力範囲に維持する。【解決手段】 プロセスチャンバの排気を排気特性の異なる2つの排気系を用いて行うことによって、プロセスチャンバ内の達成圧力に応じた排気系による排気動作を行うものであり、高真空用の真空ポンプ(ターボ分子ポンプ2)を備える排気系とドライポンプ3を備える排気系の2系統の排気系をプロセスチャンバ1に切り替え可能とし、この排気系の切り替えにおいて、成膜プロセス中はドライポンプを備えた排気系に切り替える構成とする。2系統の排気系によってプロセスチャンバ1を排気して高真空状態とし、プロセスチャンバの内壁面に付着しているガス成分の除去を行い、成膜プロセスでは、ドライポンプを備える排気系のみでプロセスチャンバの排気を行い、プロセスチャンバ内の圧力を成膜プロセスに適した高圧の圧力範囲に維持する。
請求項（抜粋）：
高真空用の真空ポンプを備える排気系とドライポンプを備える排気系の2系統の排気系をプロセスチャンバに切り替え可能に備え、成膜プロセス中にはドライポンプを備えた排気系に切り替える、成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/44 B
, H01L 21/205
