特許
J-GLOBAL ID：200903020284586588
原盤露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柏木 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-210920
公開番号（公開出願番号）：特開2000-048414
出願日： 1998年07月27日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：
【要約】【課題】 エッジが急峻なピット及びグルーブを形成し得るようにする。【解決手段】 フォトレジスト層が二層に形成された基板1を露光するピット形成用ビームA、グルーブ形成用ビームBのフォーカス位置を、それぞれエキスパンダ20,24等のフォーカス位置設定手段により最適な位置に設定することにより、エッジが急峻なピット及びグルーブを形成し得るようにする。
請求項（抜粋）：
ピットを形成するフォトレジスト層とグルーブを形成するフォトレジスト層とが二層に別けて積層された基板を支えて回転させるターンテーブルと、ピット形成に対応するピット形成用ビームとグルーブ形成に対応するグルーブ形成用ビームとを切替可能に前記基板に向けて出射するビーム切替手段と、前記ピット形成用ビーム又は前記グルーブ形成用ビームを前記フォトレジスト層に収束するピックアップと、選択された前記ピット形成用ビームと前記グルーブ形成用ビームとに対応して前記基板に対するフォーカス位置を設定するフォーカス位置設定手段と、を備える原盤露光装置。
Fターム (4件)：
5D121BB07
, 5D121BB23
, 5D121BB26
, 5D121BB38
