特許

J-GLOBAL ID：200903020292514740

耐熱性フォトレジスト組成物および感光性基材、ならびにパターン形成方法

発明者： 豊田 英嗣 ,  藤井 弘文 ,  表 利彦 ,  林 俊一 ,  望月 周
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-256883
公開番号（公開出願番号）：特開平7-134417
出願日： 1993年10月14日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：

【要約】【目的】 露光感度や解像度に優れ、高温加熱時の膜減り現象も大きくない耐熱性フォトレジスト組成物、および該組成物から得られる感光性基材、並びにネガ型もしくはポジ型のパターン形成方法を提供する。【構成】 分子内にイソイミド単位を有するポリイミド前駆体からなる樹脂成分と、光分解性塩基発生剤もしくは光分解性酸発生剤を配合して耐熱性フォトレジスト組成物を得る。前者の発生剤を含有させるとネガ型パターンを、また、後者の発生剤を含有させるとポジ型のパターン画像を得ることができる。

請求項（抜粋）：

下記式(化1)にて示されるイソイミド単位を分子内に有する樹脂成分と、【化1】(但し、R1 およびR2 はそれぞれ4価および2価の芳香族または脂肪族炭化水素残基を示し、矢印の結合は異性化によって置換可能な結合を示す。)活性光線の照射によって塩基性化合物を誘発しうる化合物、または活性光線の照射によって酸性化合物を誘発しうる化合物と、を含有してなる耐熱性フォトレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/038 505 ,  H01L 21/027