特許

J-GLOBAL ID：200903020311095338

高分散高疎水性シリカ粉末とその製造方法

発明者： 森井 俊夫 ,  室田 正道 ,  城野 博州 ,  パウル ブランドル
出願人/特許権者： 日本アエロジル株式会社
代理人 (1件)： 千葉 博史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-332847
公開番号（公開出願番号）：特開2004-168559
出願日： 2002年11月15日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】高分散性および高疎水性のシリカ粉末とその製造方法を提供する。【解決手段】疎水率95%以上および疎水化度が70%以上、好ましくは、疎水率98%以上および疎水化度が76%以上であって、粒径10〜70μmの範囲内の分布頻度が10%以上、およびこの範囲外の分布頻度が2%以下であることを特徴とする高分散性および高疎水性のシリカ粉末。この処理粉末は、例えばシリコーンオイル系処理剤による一次表面処理、解砕処理、アルキルシラザン系処理剤による二次表面処理を行い、かつ各処理工程の条件を上記疎水性および分布頻度を有するように調整することによって製造することができる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

疎水率95%以上および疎水化度が76%以上であって、粒径10〜70μmの範囲に集中した分布密度を有することを特徴とする高分散高疎水性シリカ粉末。

IPC (1件)：

C01B33/18

FI (1件)：

C01B33/18 C

Fターム (19件)：

2H005AA08 ,  2H005AB02 ,  2H005CA12 ,  2H005CA26 ,  2H005CB13 ,  2H005EA05 ,  2H005EA10 ,  4G072AA25 ,  4G072AA41 ,  4G072BB05 ,  4G072DD03 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH29 ,  4G072HH33 ,  4G072QQ07 ,  4G072TT01 ,  4G072TT02 ,  4G072UU30