特許
J-GLOBAL ID：200903020312382284
基板の熱処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-199293
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037894
出願日： 1993年07月16日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 広範なガス流量全域において、熱処理炉内に導入されたガスを渦巻流の無い均一な流れとして、均一な熱処理を行なえるようにし、熱処理炉内のガスの置換も速やかに行なえるようにして、スループットを向上させる。【構成】 熱処理炉12のガス導入部14を、ガス供給口20を通して供給されるガスを一旦流入させてガス流速を低減させる第1のガス導入室28と、この第1のガス導入室に連通し、熱処理炉の幅方向全体にわたって熱処理炉の一端側の上面炉壁42又は下面炉壁43の外側に帯状に形成された第2のガス導入室44、45とを備えて構成し、熱処理炉の一端側の上面炉壁又は下面炉壁に熱処理炉の幅方向全体にわたって複数個の吹出し用細孔44、45を形成する。
請求項（抜粋）：
扁平状に形成され、被処理基板を1枚ずつ収容する熱処理炉を有し、配管を通して供給されるガスを前記熱処理炉内へ、その熱処理炉の一端側に形設されたガス導入部を経て流入させ、熱処理炉の他端側から排気しながら、被処理基板に対し所要の熱処理を施すようにした基板の熱処理装置において、前記ガス導入部を、前記配管に連通し、その配管を通して供給されるガスを一旦流入させてガス流速を低減させる第1のガス導入室と、この第1のガス導入室に連通し、前記熱処理炉の幅方向全体にわたって熱処理炉の一端側の上面炉壁又は下面炉壁の外側に帯状に形成された第2のガス導入室と、前記熱処理炉の一端側の上面炉壁又は下面炉壁に熱処理炉の幅方向全体にわたって形成され、前記第2のガス導入室と熱処理炉の内部とを連通させて、第2のガス導入室のガスを熱処理炉内に熱処理炉の上面炉壁又は下面炉壁と交差する方向へ吹き出させる複数個の吹出し用細孔又は吹出し用スリットとを備えて構成したことを特徴とする基板の熱処理装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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