特許

J-GLOBAL ID：200903020337661773

マグネトロンスパッタ装置

発明者： 槙 孝一郎 ,  浜田 普一
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-215765
公開番号（公開出願番号）：特開平6-041737
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月15日
要約：

【要約】【目的】 ターゲット全面で成膜可能な、末端部においても中央部においても同等の均一磁界を有するマグネトロンスパッタ装置を提供する。【構成】 ターゲット下方に永久磁石を設置し、ターゲットの中央と端部上に透磁率が100以上の磁性体を設置するターゲットカソードを有するマグネトロンスパッタ装置において、センターとエッジ部分のマグネットが互いに反対磁極であり、該センターマグネットとエッジマグネットとが直接接合されている点に特徴がある。

請求項（抜粋）：

ターゲットの下方に永久磁石または電磁石を設置し、ターゲットの中央と端部上に透磁率が100以上の磁性体をさらに設置するターゲットカソードを有するマグネトロンスパッタ装置において、センターとエッジ部分のマグネットが互いに反対磁極であり、かつ該センターマグネットとエッジマグネットとが直接接合されていることを特徴とするマグネトロンスパッタ装置。