特許

J-GLOBAL ID：200903020348418870

反射防止フィルム及びその製造方法

発明者： 湯浅 基和
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-280291
公開番号（公開出願番号）：特開2001-100008
出願日： 1999年09月30日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：

【要約】【課題】 表示装置の反射光の表面反射を低減し、汚れ難く、また、帯電防止、電磁波遮断及び赤外線遮断効果を有する反射防止フィルムとその製造方法を提供する。【解決手段】 基材フィルムの少なくとも片面に、金属含有薄膜層を介して、フッ素化されたアルキル基を含むシリカが積層されている反射防止フィルム及び、該反射防止フィルムを製造する方法において、大気圧近傍の圧力下、金属化合物及びアルキルシランとフッ素含有ガスを含むガス雰囲気中で、対向電極間にパルス化された電界を印加することにより発生する、放電プラズマを利用する反射防止フィルムの製造方法。

請求項（抜粋）：

基材フィルムの少なくとも片面に、金属含有薄膜層を介して、フッ素化されたアルキル基を含むシリカが積層されていることを特徴とする反射防止フィルム。

IPC (4件)：

G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 ,  C23C 16/40

FI (4件)：

B32B 7/02 103 ,  B32B 9/00 A ,  C23C 16/40 ,  G02B 1/10 A

Fターム (55件)：

2K009AA04 ,  2K009AA05 ,  2K009AA15 ,  2K009BB11 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009CC09 ,  2K009CC14 ,  2K009DD03 ,  2K009DD04 ,  2K009DD05 ,  2K009DD17 ,  2K009EE03 ,  4F100AA20C ,  4F100AA20E ,  4F100AA21 ,  4F100AB01B ,  4F100AB01D ,  4F100AH05C ,  4F100AH05E ,  4F100AH06C ,  4F100AH06E ,  4F100AH08B ,  4F100AH08D ,  4F100AT00A ,  4F100BA05 ,  4F100BA06 ,  4F100BA10C ,  4F100BA10E ,  4F100BA13 ,  4F100EH66 ,  4F100GB41 ,  4F100JD08 ,  4F100JG03 ,  4F100JK12 ,  4F100JL06 ,  4F100JM02B ,  4F100JM02D ,  4F100JN06 ,  4K030AA04 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA14 ,  4K030AA16 ,  4K030BA44 ,  4K030BA61 ,  4K030BB13 ,  4K030CA07 ,  4K030CA12 ,  4K030DA02 ,  4K030FA03 ,  4K030JA14 ,  4K030LA01 ,  4K030LA11 ,  4K030LA18