特許
J-GLOBAL ID：200903020353490024
抵抗膜方式の座標入力装置及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大塚 康徳 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-066456
公開番号（公開出願番号）：特開平5-250086
出願日： 1991年03月29日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】抵抗膜の膜厚誤差等の製造工程中の誤差によらず直線性誤差を所定値以下に抑え、高精度の座標入力装置と製造方法を提供。【構成】スペーサ3を介した2枚の抵抗膜1,2の所望点で導通に基づき、前記点の座標に対応する電圧値あるいは電流値を出力する座標入力装置と、抵抗膜の抵抗のバラツキを含む座標補正用のデータを予め記憶する記憶手段を備えることを特徴。計測演算部20の定電流源25と増幅回路22と入力パネル10のX,Y各抵抗膜との各接続を切り換えるアナログスイッチ回路21を有す。製造は抵抗膜作成工程と、加工前の電圧値/電流値の予備測定工程と2枚の抵抗膜間にスペーサを挿入して張り合わせる入力パネル作成工程とを備え、更に予備測定された定点の座標と電圧値/電流値とを、座標補正方法に対応する測定値加工工程と、加工された値を座標補正データ記憶工程を備えることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
スペーサを介した2枚の抵抗膜間の所望の点での導通に基づき、前記点の座標に対応する電圧値あるいは電流値を出力する座標入力手段と、前記抵抗膜の抵抗のバラツキを含む座標補正用のデータを予め記憶する記憶手段と、前記座標入力手段からの入力値に対応して、前記記憶手段の記憶するデータに基づいて補正された座標を算出する座標算出手段とを備えることを特徴とする抵抗膜方式の座標入力装置。
IPC (2件)：
G06F 3/03 320
, G06F 3/03 380
