光デイスク原盤及びその作成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田辺恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-354469
公開番号（公開出願番号）：特開平7-201085
出願日： 1993年12月30日
公開日（公表日）： 1995年08月04日
要約：

【要約】【目的】傷等の欠陥が無くかつ容易に作成し得る光デイスク原盤を提案する。【構成】円盤状のプラスチツク盤10と、プラスチツク盤10の第1の面に形成された紫外線硬化樹脂層15と、紫外線硬化樹脂層15を介してプラスチツク盤10に形成され、表面に記録信号に応じた凹凸が形成されたレジスト層19とを設けたことにより、傷等の欠陥が無くかつ容易に作成し得る光デイスク原盤20を得ることができる。この結果ガラス盤10を用いた際に必要となつた煩雑な手間や大規模な設備を省略することができる。

請求項（抜粋）：

光デイスクを成形するスタンパの型となる光デイスク原盤において、円盤状のプラスチツク盤と、上記プラスチツク盤の第1の面に形成された紫外線硬化樹脂層と、上記紫外線硬化樹脂層を介して上記プラスチツク盤に形成され、表面に記録信号に応じた凹凸が形成されたレジスト層とを具えたことを特徴とする光デイスク原盤。

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