特許

J-GLOBAL ID：200903020366848726

露光装置

発明者： 川井 秀実
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-027324
公開番号（公開出願番号）：特開平5-190415
出願日： 1992年01月17日
公開日（公表日）： 1993年07月30日
要約：

【要約】【目的】 露光フィールドが広い場合でもマスクパターンの全体を高い解像度で感光基板上に露光する。【構成】 レチクルブラインド3で規定されたレチクルRのパターンの一部が露光されるウェハW上の部分領域の結像面に対する傾きを検出する傾き検出手段10,11,12A,13,14と、その結像面に対してウェハWを傾斜自在なレベリングステージ6とを有する。レチクルブラインド3によってレチクルRのパターンを複数に分割し、これら分割されたパターンを順次ウェハW上に露光する際、その傾き検出手段の検出信号を用いて、その結像面とウェハW上の部分領域の表面とがほぼ一致するようにレベリングステージ6を制御する。

請求項（抜粋）：

光源からの照明光をほぼ均一な強度分布に成形すると共に、該均一な照明光をマスクに形成されたパターンに照射する照明光学系と、該照明光学系中の前記マスクと共役な面又はその近傍に配置され、前記照明光による前記マスクのパターンの照明領域を任意に規定する可変視野絞りと、感光基板の表面を所定の露光基準面の近傍に配置するように前記感光基板を保持する基板ステージとを備えた露光装置において、前記可変視野絞りによって規定された前記マスクのパターンの一部が露光されるべき前記感光基板上の部分領域の前記露光基準面に対する傾きを検出する傾き検出手段と、前記露光基準面に対して前記感光基板を任意に傾斜自在な駆動手段と、前記可変視野絞りによって前記マスクのパターンを複数に分割し、該複数に分割されたパターンの各々を前記感光基板に露光していく際、前記傾き検出手段からの検出信号に基づいて、前記露光基準面と前記感光基板上の部分領域の表面とがほぼ一致するように前記駆動手段を制御する制御手段とを備えた事を特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 J ,  H01L 21/30 311 C

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-144116
  
• 特開平4-215417
  
• 特開昭63-012134
  
• 特開平1-112726