特許

J-GLOBAL ID：200903020373222239

投影露光装置

発明者： 谷口 哲夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-032356
公開番号（公開出願番号）：特開平7-245251
出願日： 1994年03月02日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：

【要約】【目的】 照明光の波長を変化させることにより、所定の結像特性を所定量だけ変化させる場合に、露光装置として必要な他の結像特性を悪化さない。【構成】 エキシマレーザ光源1から射出される照明光ILが、リレー光学系5A及びコンデンサーレンズ5B等を経てレチクルRを照明し、レチクルRのパターンが投影光学系PLを介してウエハW上に露光される。波長制御系23により照明光ILの波長を変えて投影光学系PLの倍率を変える際に、結像特性制御系25を介して投影光学系PL内のレンズエレメント17の位置を変えることにより、投影光学系PLのディストーションが悪化しないようにする。

請求項（抜粋）：

照明光を生成する光源と、前記照明光でマスクパターンを照明する照明光学系と、前記マスクパターンの像を感光剤が塗布された基板上に投影する投影光学系と、前記光源で生成される照明光の波長を変化させる波長可変手段と、を有し、前記投影光学系の所定の結像特性を変化させるために前記波長可変手段を介して前記照明光の波長を変化させる投影露光装置において、前記感光剤の分光感度特性を入力する感度特性入力手段と;該感度特性入力手段により入力された分光感度特性、及び前記波長可変手段により設定された前記照明光の波長に基づいて前記基板への露光量を制御する露光量制御手段と;を設けたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 27/18 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平4-030411
  
• 特開昭60-214334
  
• 特開平1-309323
  

審査官引用 (1件)

• 特開平4-030411